光刻膠高溫固化烤箱，半導體高溫烤箱應用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，箱內(nèi)空氣封閉自循環(huán)，經(jīng)耐高溫高效空氣過濾器（100級）反復過濾，使烘箱工作室內(nèi)處于無塵狀態(tài)。無塵烤箱工作室為不銹鋼結(jié)構。適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè)。

光刻膠高溫固化烤箱，半導體高溫烤箱主要特點如下：
1.采用特制耐高溫長軸型馬達及強力多翼式風葉，強力吸風式機構使得均勻分布溫度，安靜低噪音，節(jié)約能源；

2.箱體選用全陶瓷纖維保溫，具有升溫快、節(jié)能等特點；
3.吸風口玻纖過濾器，確保潔凈度的要求。

滿足標準：

1.11158-1989高溫試驗箱技術條件

2.2423.2-1989試驗B

基本配置：
1. 溫度范圍：RT～450℃；

2. 內(nèi)箱尺寸：800×600×600mm（W×H×D）、700*500*500（可選）；

3. 箱體數(shù):2個,上下布置，可定做；

4. 內(nèi)膽材質(zhì)：SUS321鏡面不銹鋼，無縫焊接保護被加工件不受任何污染；
5. 升溫時間（空載）：1.5h；

6. 降溫時間（空載）：300℃-50℃降溫時間1.5-3.5小時(采用水冷翅片散熱器)；

7. 加熱器：特制無塵加熱器；

8. 溫度和氧含量記錄:進口無紙記錄儀；

9.標準配件高效99.97%（0.3 μ ）微?？諝膺^濾器、微差壓力劑、計時器、可調(diào)隔層板、單段式溫度控制器

氧含量：
1. 高溫狀態(tài)氧含量：≤ 10ppm +氣源氧含量;

2. 低溫狀態(tài)氧含量：≤ 20ppm +氣源氧含量

3. 控溫穩(wěn)定度：±1℃；溫度均勻度：±10℃（400℃平臺）；

輸出控制:
1. 配置PLC,可實現(xiàn)多事件輸出控制氣氛、水等開關和報警；

2. 控制：上下爐腔可單獨控溫、通氣、報警保護；

3. 控溫儀表：日本島電FP93溫控儀；

4. 控溫段數(shù)：4×10段；控溫點數(shù)：2點；

5. 超溫報警點數(shù)：2點；檢測點數(shù)：2點；

6. 報警保護：超溫、斷偶等聲光報警保護；超溫保護：獨立感溫式超溫保護器；電機保護：電機過電流、水冷保護； 表面

   溫升：＜30℃；